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2020中國(深圳)國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會

   日期:2019-11-19     瀏覽:1024    評論:0    
核心提示:2020中國(深圳)國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會光刻設(shè)備、掩膜技術(shù)/光刻膠行業(yè)的國際盛會中國深圳 期待您的傾情參與!展出
2020中國(深圳)國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會
光刻設(shè)備、掩膜技術(shù)/光刻膠行業(yè)的國際盛會     中國•深圳  期待您的傾情參與!
展出時(shí)間: 2020年4月9-11日      地點(diǎn):深圳會展中心
 
展會背景
微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力,21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。
隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管,推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展,在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下,先進(jìn)的大視場、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。由亨勱會展(上海)有限公司于眾多協(xié)會攜手在深圳會展中心舉辦“2020中國(深圳)國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會暨發(fā)展論壇”,歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀!                                               
 
組織單位     
支持單位: 國家工業(yè)和信息化部           
組織單位: 中國電子學(xué)會電子材料學(xué)分會 中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會   
中國新材料行業(yè)協(xié)會         臺灣區(qū)電機(jī)電子工業(yè)同業(yè)公會
深圳市人民政府             中國電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司       
特邀單位: 國際半導(dǎo)體協(xié)會(ITRS)    中國電子科技集團(tuán)公司
中國微米納米技術(shù)學(xué)會       中國科學(xué)院微電子研究所
微納電子系統(tǒng)集成研究中心   中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會
中國印制電路行業(yè)協(xié)會       深圳市半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會                 
招展單位: 亨勱會展(上海)有限公司
 
日程安排:
報(bào)到布展:2020年4月7-8日   展出時(shí)間: 2020年4月9-11日
 
頂級盛會(大會設(shè)贊助、協(xié)辦單位,詳情請致電組委會)
品牌展示 高層論壇 行業(yè)用戶洽談會 外商采購會 新技術(shù)新產(chǎn)品發(fā)布會  
“搭建國際采購貿(mào)易平臺、促進(jìn)企業(yè)交流合作、提高參展效果”
————將是我們的目標(biāo)!
◆規(guī)模空前——展出面積20,000平方米,國際標(biāo)準(zhǔn)展位共800個(gè),超30000名專業(yè)觀眾
◆商機(jī)無限—采購商云集,光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)巨大商機(jī)全面彰顯,接觸分享全球光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)市場潛力
◆技術(shù)薈萃—國內(nèi)外最新產(chǎn)品及成果薈萃,展會-論壇-經(jīng)貿(mào)合作,是企業(yè)宣傳及市場開拓的高效平臺
◆項(xiàng)目匯聚—每年一度的行業(yè)例會,貿(mào)易對口洽談,國際貿(mào)易公司定點(diǎn)采購,是會展招商的重要平臺
 
展品范圍:
◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等;
◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等;
◆光掩膜、鉻版、干版,凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等; 
 
觀眾范圍:
◆展會將邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位:電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會參觀、洽談。
◆預(yù)計(jì)展覽會將吸引來自中國、日本、歐洲、北美、韓國、臺灣等國家和地區(qū)的決策者和專業(yè)人士。來自各國的參展商可以在展會中面對面會見極具潛力的應(yīng)用客戶群和合作伙伴。參展商通過光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展會,進(jìn)一步發(fā)展中國和亞洲地區(qū)市場。
 
參展細(xì)則  標(biāo)準(zhǔn)展位費(fèi)用:(注:雙面開口加20%開口費(fèi))
展位規(guī)格 國內(nèi)企業(yè) 合資企業(yè) 外資企業(yè)
標(biāo)準(zhǔn)展位(3m*3m)9㎡ RMB 16000/9㎡展期 RMB 18000/9㎡展期 USD 4500/9㎡展期
光地(36 ㎡) RMB 1700/ ㎡展期 RMB 1900/ ㎡展期 USD 450/ ㎡展期
◆標(biāo)準(zhǔn)展位費(fèi)用:包括展出場地、2.5m高壁板、楣牌制作、9平方米地毯、洽談桌一張、椅子二把、10A/220V 單相插座一個(gè),射燈二支。 
◆空場地不帶任何展架及設(shè)施,參展商自行安排特殊裝修工作或委托組織單位推薦的搭建公司。
◆廣告刊例 
注:會刊規(guī)格(135mm * 210mm)、進(jìn)口銅版紙、版面內(nèi)容由展商自行設(shè)計(jì)。
封面 封二 封三 封底 扉頁 彩色整版 黑白整版  文字簡介
25000元 18000元 12000元 18000元 12000元 6000元 4000元   2000元
◆新技術(shù)發(fā)布會、新產(chǎn)品推廣會,專題研討會
主辦單位計(jì)劃在展覽期間開展一系列新產(chǎn)品新技術(shù)發(fā)布會、新產(chǎn)品推廣會、產(chǎn)品專題研討會,參展商可以獲得研討會優(yōu)先贊助權(quán),有關(guān)公司可以自主確定報(bào)告內(nèi)容,負(fù)責(zé)提供相關(guān)文件,每家贊助公司可以自定邀請觀眾數(shù)量。
★每場收費(fèi)20,000元RMB,時(shí)間為45分鐘(含場地各類配套設(shè)施、宣傳費(fèi)用等)
 
參展事項(xiàng)
1、參展單位詳細(xì)填寫好《參展合同表》并加蓋公章,郵寄或傳真至組委會;
2、組委會收到確認(rèn)申請表,參展商于3個(gè)工作日內(nèi)將參展費(fèi)用50%或全款匯入組委會帳戶,并將匯款憑證傳真至組委會以便查對,否則不予保留預(yù)訂展位。
3、展位安排以“先報(bào)名、先交款、先安排”為原則,組委會有權(quán)對少量展位予以調(diào)整;
4、展品運(yùn)輸、展會接待、住宿等事宜將在開展前一個(gè)月組委會另行發(fā)送《參展商手冊》。
 
2020中國(深圳)國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展組委會 
咨詢熱線:021-5415 5272         傳 真:021-5106 9101 
聯(lián) 系 人:蔡旭陽13681658788    郵 箱:295662837@qq.com 
 
特別提示:本信息由相關(guān)企業(yè)和個(gè)人自行提供,真實(shí)性未證實(shí),僅供參考。請謹(jǐn)慎采用,風(fēng)險(xiǎn)自負(fù)。
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